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  1. O全学_雑誌掲載論文
  2. 雑誌掲載論文 - 2010~2012

半導体プロセス用高密度プラズマ源の開発(トピックス)

http://hdl.handle.net/20.500.12099/36117
http://hdl.handle.net/20.500.12099/36117
bb9d4a5c-412b-415f-a7b0-532072d6c957
名前 / ファイル ライセンス アクション
c201000174.pdf 本文(Fulltext) (225.1 kB)
アイテムタイプ 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2017-07-14
タイトル
タイトル 半導体プロセス用高密度プラズマ源の開発(トピックス)
言語 ja
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 牟田, 浩司

× 牟田, 浩司

ja 牟田, 浩司

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雑誌名 日本機械学會誌

巻 113, 号 1098, p. 389-389, 発行日 2010-05-05
ISSN
収録物識別子タイプ PISSN
収録物識別子 0021-4728
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN00187394
権利
権利情報 The Japan Society of Mechanical Engineers (社団法人日本機械学会)
権利
権利情報 本文データは学協会の許諾に基づきCiNiiから複製したものである
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
形態
値 225147 bytes
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
出版者
出版者 社団法人日本機械学会
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 論文(Article)
資源タイプ・ローカル
値 雑誌掲載論文
資源タイプ・NII
値 Journal Article
資源タイプ・DCMI
値 text
資源タイプ・ローカル表示コード
値 01
異版である
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ URI
関連識別子 http://ci.nii.ac.jp/naid/110007593716/
コメント
値 出版社版 (publisher version) postprint
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Ver.1 2023-07-27 18:28:00.649962
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