| Item type |
学術雑誌論文 / Journal Article(1) |
| 公開日 |
2017-07-14 |
| タイトル |
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タイトル |
Complete parameterization of the dielectric function of microcrystalline silicon fabricated by plasma-enhanced chemical vapor deposition |
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言語 |
en |
| 言語 |
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言語 |
eng |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
journal article |
| 著者 |
YUGUCHI, Tetsuya
KANIE, Yosuke
MATSUKI, Nobuyuki
FUJIWARA, Hiroyuki
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| 雑誌名 |
Journal of Applied Physics
巻 111,
号 8,
p. 083509,
発行日 2012-04-15
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| ISSN |
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収録物識別子タイプ |
PISSN |
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収録物識別子 |
0021-8979 |
| 書誌レコードID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AA00693547 |
| DOI |
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関連タイプ |
isIdenticalTo |
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識別子タイプ |
DOI |
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関連識別子 |
10.1063/1.4704158 |
| 権利 |
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権利情報 |
Copyright (2012) American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics. |
| フォーマット |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
application/pdf |
| 形態 |
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値 |
2709104 bytes |
| 著者版フラグ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| 出版者 |
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出版者 |
American Institute of Physics |
| 資源タイプ |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
論文(Article) |
| 資源タイプ・ローカル |
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値 |
雑誌掲載論文 |
| 資源タイプ・NII |
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値 |
Journal Article |
| 資源タイプ・DCMI |
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値 |
text |
| 資源タイプ・ローカル表示コード |
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値 |
01 |
| 部分である |
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関連タイプ |
isPartOf |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://link.aip.org/link/?jap/111/083509 |
| コメント |
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値 |
出版社版 (publisher version) postprint |
| 関係 |
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関連名称 |
The following article appeared in Yuguchi, T et al., J. Appl. Phys. 111, 083509(2012) and may be found at http://link.aip.org/link/?jap/111/083509. |
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